ブランド名 | plus RESTORE(プラスリストア) |
商品名 | スキンモイストW |
内容量 | 1g |
特徴 |
デリケートな肌を滞留型ベールで乾燥から守る、保湿乳液。 保水力と保湿・エモリエント効果に優れた特許成分配合 「ポリグルコサミン誘導体(ポリグルコサミン+天然脂肪酸)(※1)」を配合し、乾燥した肌も使うたびにしっとりとうるおいます。 また、低刺激で肌なじみを良くする製法(D相乳化法)を採用し、界面活性剤を最小限に抑え、油分を高配合してもベタつきが少なくクリーミーな使用感を実現。 レーザー・光治療後の敏感な肌にもご使用いただける、おすすめの保湿アイテムです。 ※レーザ使用後など、特に敏感な肌には、スキンモイストW・単品でもご使用いただけます。 ※顔だけでなく、体にもお使いいただけます。 無香料、無着色、無鉱物油 パラベンフリー、アルコールフリー パッチテスト、スティンギングテスト、ノンコメドジェニックテスト、アレルギーテスト済(※2) ※1 キトサンステアラミドヒドロキシプロピルスルホン酸Na[特許 第4394483号] ※2 すべての方にアレルギーやニキビ、皮膚刺激がおこらないというわけではありません。 |
ご使用方法 | 朝晩の洗顔、化粧水の後に、スキンモイストWを使用してください。 適量を手に取り、肌にやさしくなじませてください。 |
ご使用上の注意 | 肌に異常が生じていないかよく注意して使用してください。肌に合わない時は、ご使用をおやめください。 |
成分 | 水、BG、グリセリン、パルミチン酸エチルヘキシル、ヘキサ(ヒドロキシステアリン酸/ステアリン酸/ロジン酸) ジペンタエリスリチル、 ペンチレングリコール、リンゴ酸ジイソステアリル、水添パーム油、ステアリン酸 ポリグリセリル-10、キトサンステアラミドヒドロキシプロピルスルホン酸Na、 スクワラン、ホホバ種子油、 マンダリンオレンジ果皮エキス、カルボマー、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、グルコシルセラミド、 アミノカプロン酸、アラントイン、グリチルリチン酸2K、α-グルカン、TEA、フェノキシエタノール |
製造国 | 日本 |
区分 | 化粧品 |
販売元 | 株式会社ジェイメック |
広告文責 | 株式会社Double A Medical / 連絡先:クリニックカスタマーセンター 0120-971-960 |
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